MONITORING PLAZMY
Optymalizacja procesów i kontrola jakości
Monitoring plazmy
Spectropol posiada w swojej ofercie narzędzia do analizy, monitoringu i optymalizacji procesów z użyciem plazmy.
Plazma – zjonizowana materia o stanie skupienia przypominającym gaz, w którym znaczna część cząstek jest naładowana elektrycznie. Mimo że plazma zawiera swobodne cząstki naładowane (jony i elektrony), to w skali makroskopowej jest elektrycznie obojętna.
Kontrola procesu jest szczególnie ważna w przemysłowych zastosowaniach plazmy w celu zapewnienia powtarzalności i jakości procesu. Spektroskopia optyczna emisyjna jest techniką pierwszego wyboru, gdyż nie zaburza plazmy, wyniki są otrzymywane w czasie rzeczywistym.
Do monitoringu plazmy stosujemy przede wszystkim produkty firmy PLASUS (skonfigurowane systemy) a także wykorzystujemy spektrofotometry z ofert naszych dostawców.
Systemy EMICON SA to pierwszy wybór do kompleksowej kontroli procesów i zapewnienia jakości procesów plazmowych na liniach produkcyjnych. Dzięki unikalnej akwizycji i połączeniu wszystkich ważnych danych procesowych w jednym systemie w czasie rzeczywistym, systemy EMICON są światowym wzorcem skutecznego sterowania procesami.
Zalety:
szeroki zakres spektralny
monitoring w czasie rzeczywistym
optymalizacja i kontrola procesu
wielokanałowość
zastosowania przemyłowe i R&D
przemysłowy interfejs PROFIBUS i LAN
W ofercie PLASUS:
EMICON SA: wolnostojący system do aplikacji na linii produkcyjnej
EMICON SA-HIPIMS: wolnostojący system do aplikacji na linii produkcyjnej do zastosowań w procesach inmpulsowych
EMICON HR: system wysokiej rozdzielczości do monitoringu i analizy plazmy
EMICON MC: standardowy wielokanałowy system do monitoringu plazmy i kontroli procesu.
EMICON LC: system stosowany do kontroli cienkich warst w
Masz pytania?
Napisz do nas
Zapoznaj się z ofertą
Spektrometrów
Wielokanałowy system wykorzystywany na liniach produkcyjnych
Systemy EMICON SA to pierwszy wybór do całościowej kontroli procesów i zapewnienia jakości procesów plazmowych w zakładach przemysłowych i liniach produkcyjnych. Dzięki unikalnej kombinacji umożliwiającej gromadzenie wszystkich ważnych danych procesowych w jednym systemie w czasie rzeczywistym, systemy EMICON SA są światowym wzorcem skutecznego sterowania procesami.
DANE TECHNICZNE:
Liczba kanałów spektralnych 1-8
Rozdzielczość widmowa 1,5 nm
Zakres długości fali 200 - 1100 nm
Rozdzielczość sygnału 16 bitów
Rozdzielczość chwilowa 1 ms do kilku minut
Wejście czujnika 0-10V (2/4)
Analogowe wyjścia sterujące 0-10V (4/8)
Wejścia i wyjścia cyfrowe: TTL 5V/24V (8/8)
Sieć LAN (TCP/IP)
Protokół sieciowy Fieldbus: Profibus, Profinet, EtcherCAT, EtcherNET/IP, OPC-UA
FUNKCJONALNOŚĆ
praca autonomiczna (24/7)
Sterowanie procesem z funkcją PID i wartości zadanej
Szybkie wyjścia napięciowe do sterowania procesami, np. przepływu gazu lub mocy
Systemy wielokanałowe do pomiarów przestrzennie rozdzielczych
Wejścia napięciowe dla sygnałów czujników zewnętrznych
Wejścia prądowe/napięciowe dla krzywych impulsów z rozdzielczością czasową
Cyfrowe wejścia i wyjścia do zewnętrznego sterowania systemem
Obsługa magistrali polowej i interfejs LAN do integracji systemu
Przygotowanie danych do aplikacji opartych o Przemysł 4.0 i AI
Konfiguracja przez LAN za pomocą oprogramowania EMICON SA Manager dla Windows
Konfiguracja modułowa zgodnie z profilem wymagań
ZASTOSOWANIE
Analiza i monitorowanie procesów
Monitorowanie i zabezpieczanie stabilności procesu
Sterowanie procesem w procesach reaktywnego napylania katodowego
Monitorowanie stanu komory
Wykrywanie i monitorowanie zanieczyszczenia plazmy
Monitorowanie procesów z rozdzielczością przestrzenną w zastosowaniach wielkopowierzchniowych
Modernizacja systemów PEM
Wielokanałowy system, wykorzystywany w do optymalizacji i kontroli jakości procesów impulsowych.
Oprócz pomiaru danych spektralnych system EMICON SA-HIPIMS rejestruje przebiegi napięcia i prądu w impulsowych procesach plazmowych (HIPIMS) z wysoką rozdzielczością czasową. Ta unikalna kombinacja zbierania danych umożliwia niezależną kontrolę gęstości jonów i składu gazu. W procesach reaktywnych otwiera to drzwi do oddzielnego dostosowywania właściwości stechiometrycznych i morfologicznych warstwy.
DANE TECHNICZNE:
Liczba kanałów spektralnych 1-8
Analogowe wejścia impulsowe ± 1V (2x)
Częstotliwość próbkowania 40 MHz
Wyjścia impulsowe wyzwalające analogowe ± 5V (1x) optyczne (2x)
Analogowe wyjścia sterujące 0-10V (4/8)
Sieć LAN (TCP/IP)
Protokół sieciowy Fieldbus: Profibus, Profinet, EtcherCAT, EtcherNET/IP, OPC-UA
FUNKCJONALNOŚĆ
Rejestracja danych sygnałów elektrycznych z wysoką rozdzielczością czasową
Łączenie widmowych i elektrycznych danych pomiarowych w czasie rzeczywistym
Rejestracja w czasie rzeczywistym sygnałów prądowych i napięciowych w procesie impulsowym (HIPIMS).
Akwizycja, monitorowanie i ocena kształtu krzywej tętna
Analogowe i optyczne wejścia wyzwalające do synchronizacji zapisu danych impulsowych i widmowych
Wszystkie cechy systemu EMICON SA
Konfiguracja przez LAN za pomocą oprogramowania EMICON SA Manager dla Windows
ZASTOSOWANIE
Analiza plazmy w zastosowaniach z plazmą pulsacyjną (HIPIMS, impuls DC, …)
Monitorowanie procesów i optymalizacja procesów aplikacji plazmy pulsacyjnej
Niezależna kontrola przepływu gazu i gęstości jonów w reaktywnych procesach HIPIMS
Monitorowanie i zabezpieczanie stabilności procesu
Obserwacja i kompensacja erozji celu
Wielokanałowy system, wykorzystywany w do optymalizacji procesów i kontroli jakości.
Systemy EMICON MC to idealne systemy monitorów plazmowych do prac badawczo-rozwojowych i odpowiednie do prawie wszystkich zastosowań w technologii plazmowej, w tym do analizy plazmy, monitorowania plazmy i optymalizacji procesów.
DANE TECHNICZNE:
Liczba kanałów spektralnych 1-8
Rozdzielczość widmowa 1,5 nm
Rozdzielczość chwilowa 20 ms do kilku minut
Zakres długości fali 200 - 1100 nm
Rozdzielczość sygnału 16 bitów
Interfejs USB 2.0
Wejścia i wyjścia cyfrowe: TTL 5V (2/4)
Analogowe wyjścia sterujące ± 10 volt (4/8)
FUNKCJONALNOŚĆ
Akwizycja danych za pomocą spektrometrów szerokopasmowych
Monitorowanie promieniowania plazmy w czasie rzeczywistym
Sterowanie procesem z funkcją PID i wartości zadanej
Systemy wielokanałowe do pomiarów przestrzennie rozdzielczych
Odtwarzanie zapisanych danych pomiarowych do analizy procesu
Cyfrowe i analogowe wejścia i wyjścia dla zewnętrznych sysdt
ZASTOSOWANIE
Monitorowanie i optymalizacja procesów
Monitorowanie stabilności procesu
Wykrywanie punktów końcowych w procesach trawienia plazmowego
Wykrywanie zanieczyszczenia osocza
Wykrywanie wycieków
Wyznaczanie właściwości warst (wymagany moduł LC)
Jednokanałowy system wysokiej rozdzielczości
System EMICON HR to spektralny monitor plazmowy o wysokiej rozdzielczości i jest szczególnie odpowiedni do szczegółowej analizy spektralnej plazmy oraz do monitorowania plazmy. Dzięki prawie 10-krotnie lepszej rozdzielczości widmowej w porównaniu z innymi modelami, EMICON HR zapewnia znacznie lepszą separację widmową sąsiednich linii atomowych oraz rozdzielczość linii wibracyjnych i rotacyjnych w pasmach molekularnych.
DANE TECHNICZNE:
Liczba kanałów spektralnych 1
Rozdzielczość widmowa 0,2-0,5 nm
Rozdzielczość chwilowa 50 ms do kilku minut
Zakres długości fali 200 - 860 nm
Rozdzielczość sygnału 16 bitów
Interfejs USB 2.0
Wejścia i wyjścia cyfrowe: TTL 5V (4/4)
FUNKCJONALNOŚĆ
Akwizycja danych za pomocą spektrometru szerokopasmowego o wysokiej rozdzielczości
Monitorowanie promieniowania plazmy w czasie rzeczywistym
Analiza plazmy i monitorowanie procesu
Odtwarzanie zapisanych danych pomiarowych do analizy procesu
Sterowanie procesem z funkcją wartości zadanej
Cyfrowe i analogowe wejścia i wyjścia do integracji systemu
Wygodne oprogramowanie EMICON MC dla systemu Windows
ZASTOSOWANIE
Analiza spektralna procesów plazmowych
Monitorowanie procesów i optymalizacja procesów
Monitorowanie stabilności procesu
Wykrywanie punktów końcowych w procesach trawienia plazmowego
Wykrywanie i monitorowanie skażenia osocza
Samodzielny lub uzupełniający system do monitorowania cienkich warstw
System EMICON LC jest idealnym rozszerzeniem systemów EMICON SA i EMICON MC do monitorowania in situ w czasie rzeczywistym transmisji, odbicia, absorpcji, koloru lub grubości powłoki na przedmiocie obrabianym podczas procesu plazmowego. Może być zintegrowany z systemami EMICON modele SA i MC jako moduł dodatkowy. Samodzielna wersja EMICON LC może być używana do procesów nakładania warst bez plazmy.
DANE TECHNICZNE:
Liczba kanałów spektralnych 1-2
Rozdzielczość widmowa 1,5 nm
Rozdzielczość chwilowa 20 ms do kilku minut
Zakres długości fali 350 - 1100 nm
Rozdzielczość sygnału 16 bitów
Źródło światła halogem, LED, ...
Grubość powłoki 5 nm do 2 um
Przestrzeń kolorów L*a*b*, XYZ
FUNKCJONALNOŚĆ
Akwizycja danych za pomocą spektrometrów szerokopasmowych
Obliczanie widmowego odbicia, transmisji i absorpcji
Wyznaczanie grubości warstwy za pomocą analizy spektralnej w czasie rzeczywistym
Obliczanie wartości kolorów w czasie rzeczywistym
Połączona analiza danych procesowych i właściwości folii
Dostępne źródła światła dostosowane do konkretnych zastosowań (halogen wolframowy, LED, …)
Komponenty optyczne do zastosowań w próżni
Sterowanie programowe z modułem rozszerzeń dla wygodnego oprogramowania EMICON MC
ZASTOSOWANIE
Jednoczesna kontrola procesu i produktu
Pomiar in-situ odbicia, transmisji i absorpcji
Wyznaczanie grubości warstwy w czasie rzeczywistym
Obliczanie wartości kolorów in-line i in-situ
Kontrola jakości
Skontaktuj się z nami by ustalić parametry systemu
Dzięki naszym dostawcom jesteśmy w stanie skonfigurować system "uszyty na miarę".
Prześlij nam swoje oczekiwania.
SpecLine jest jednym z najlepszych narzędzi do oceny danych spektralnych.
Unikalna baza linii spektralnych pozwala na szybką identyfikację pierwiastków i cząsteczek.
3 wersje oprogramowania:
- A - mini - zawierająca linie widmowe atomów i jonów
- AM - medium - zawierająca linie atomów i jonów i wybrane linie cząsteczek (dwuatomowych)
- AMS - max - zwierająca wszystkie atomy, jony i molekuły
FUNKCJONALNOŚĆ
- Obszerna baza danych z liniami widmowymi dla atomów, jonów i cząsteczek
- Automatyczne wyszukiwanie pików linii w widmach
- Automatyczna identyfikacja linii atomowych i jonowych oraz pasm molekularnych
- Nakładanie i porównywanie wielu widm – nawet w przypadku różnych formatów plików
- Szeroki zakres funkcji do oceny widm Import danych we wszystkich popularnych formatach plików spektroskopowych
- Eksport danych do formatu ASCII, binarnego i Excela (CSV), eksport grafiki do JPG, PNG, GIF i BMP
Dostawcy
