7-9 Marzec 2022 Warszawa 
On-line, 9-11-Maj 2021, San Francisco, USA 
21.06-24.06.2021 
Warszawa, Targi i Konferencja 
Jednokanałowy system wysokiej rozdzielczości (0,15nm) dostosowany zarówno do analizy spektralnej plazmy jak i monitoringu procesu.
EMICON HR
Zakres widmowy 200-860 nm systemu EMICON HR obejmuje ważne części regionu UV-VIS-NIR.
Dzięki 10-krotnie lepszej rozdzielczości spektralnej systemu EMICON HR w porównaniu ze standardowymi systemami sąsiadującymi z liniami atomowymi lub liniami rotacyjnymi i oscylacyjnymi pasm molekularnych można je łatwo rozdzielić.
Kompaktowa konstrukcja bez żadnych ruchomych części i transfer danych USB 2.0 sprawia, że system EMICON HR jest bardzo mobilnym systemem, który może być łatwo używany w wielu aplikacjach.
Oprogramowanie EMICON zapewnia rozbudowane funkcje, zwłaszcza do analizy spektralnej, analizy i monitorowania plazmy: arytmetyka widm, odtwarzanie zapisanych danych, menedżer receptur i wiele więcej.
Specifications
| EMICON HR High-Resolution |
|
| Number of Channels | 1 |
| Wavelength range [nm] | 200 - 860 |
| Spectral resolution [nm] | 0.15 |
| Signal resolution | 16 Bit |
| Digital in/out | 2/2 |
| Analog out | 4 |
| Connectivity | USB 2.0 |
Applications
Spectral analysis of process plasmas
Monitoring and optimizing plasma processes
Monitoring of process stability
Endpoint detection in plasma etching
Detection and monitoring plasma impurities
Features
Data acquisition with broad band spectrometer
Real-time monitoring of plasma radiation
Process analysis and process monitoring
Replay of saved data for off-line process analysis
Process control with set-point function
Digital and analog inputs and outputs for system integration
PROFIBUS and LAN interface for integration in system control
User friendly Windows software
Technical Data
Wavelength range: 200 ... 860 nm
Spectral resolution: 0.15 nm
1 spectrometer channels
Time resolution: approx. 20 ms to hours
Analog outputs: ± 10 volts
Digital inputs and outputs: TTL
Applications:
- Plasma diagnostics, spectral analysis
- Film deposition (PVD, PECVD)
- Plasma etching, end-point detection
- Quality control, fault detection