Szukaj

 Wielokanałowy system, wykorzystywany w do optymalizacji procesów i kontroli jakości.  Liczba kanałów 1-8 w zakresie 200-1100 nm.

 

The spectral range of 200-1100 nm of the spectrometer units of the EMICON MC systems covers the complete UV-VIS-NIR range. The EMICON MC system can be equipped with up to eight spectrometer channels with no loss regarding speed of data acquisition and data transfer. The complete data communication is managed by a single USB 2.0 line thus enabling the system to carry out control tasks even with a notebook computer.
The EMICON software provides extensive new features especially for plasma monitoring, plasma analysis and process control: recipe manager, arithmetic of spectra, automatic, replay of saved data, scaling of response curve and much more.

 

Specifications

 

  EMICON MC
Multi-Channel
Number of spectrometer channels 1-8
Wavelength range [nm] 200 - 1100
Spectral resolution [nm] 1.5
Signal resolution 16 Bit
Digital in/out 4/4
Analog out 8
Connectivity USB 2.0

 

Applications

 

Monitoring and optimizing plasma processes
Analysis of process plasmas
Monitoring of process stability
Endpoint detection in plasma etching
Gas flow control in reactive plasma sputter applications
Detection and monitoring plasma impurities
Quality control in lamp production
Leak detection

 

Features

 

Data acquisition with broad band spectrometer
Real-time monitoring of plasma radiation
Process analysis and process monitoring
Replay of saved data for off-line process analysis
Process control with set-point function and PID control
Multi-channel spectrometer systems for spatially resolved measurements
Digital and analog inputs and outputs for system integration
PROFIBUS and LAN interface for integration in system control
User friendly Windows software

 

Technical Data

 

Wavelength range: 200 ... 1100 nm
Spectral resolution: 1.5 nm
1-8 spectrometer channels
Time resolution: approx. 20 ms to minutes
Analog outputs: ± 10 volts
Digital inputs and outputs: TTL

 

Applications:

  • Film deposition (PVD, PECVD)
  • Plasma etching, end-point detection
  • Reactive magnetron sputtering (control of gas flow and power)
  • Quality control, fault detection, plasma process diagnostics
  • All
  • Analiza Spektralna
  • Analiza Widmowa
  • Specline
  • Default
  • Title
  • Date
  • Random
  • Jednokanałowy system wysokiej rozdzielczości (0,15nm) dostosowany zarówno do analizy spektralnej plazmy jak i monitoringu procesu.  
    Read More
  • Wolnostojący system, przydatny w szczególności do integracji na linii produkcyjnej. Szeroki zakres spektralny.  
    Read More
  •  Wielokanałowy system, wykorzystywany w do optymalizacji procesów i kontroli jakości.  Liczba kanałów 1-8 w zakresie 200-1100 nm.  
    Read More
  • Zestaw do badania plazmy w oparciu o wysokorozdzielczy spektrofotometr HR2000ES. Zestaw uzupełnia światłowód z dyfuzorem i oprogramowanie Ocean View.
    Read More
  •  Niskobudżetowy zestaw spektrofotometryczny do monitoringu emisji plazmy, oparty o  Flame-S-XR1-ES spectrometer (200-1025 nm), światłowód, CC-3-UV-S i OceanView.  
    Read More
  • SpecLine jest jednym z najlepszych narzędzi do oceny danych spektralnych. Unikalna baza linii spektralnych pozwala na szybką identyfikację pierwiastków i
    Read More
    • Analiza Spektralna
    • Analiza Widmowa
    • Specline
[ Reset Settings ]